研发生产，如果一层层往下拆解的话，就会发现几乎波及了整个华夏的工业体系！

这是属于举国之力的产品。

而当下人类世界里，除了华夏外，不可能有第二个国家能够独自制造出来euv光刻机这种大国重器的顶级设备……因为没有第二个国家存在如此完善并且先进的工业体系。

美国都不行！

就算是华夏能够搞出来，除了徐申学以及相关投资机构持续多年的重金投入，教育体系持续多年培养的高素质，庞大数量的顶级理工科人才外……也极大的依赖了徐申学的科研系统。

没有这个科研系统，也不可能在这么短的时间里搞出来！

毕竟西方体系是通过了几十年的深厚技术积累，尤其是在材料以及精密加工领域的深厚技术积累。

而国内在缺乏这种先进工业底蕴的情况下，想要短时间内追上来并不容易。

必须需要大量的顶级人才……而徐申学的科研系统恰好就能够批量的增强这些顶级人才的能力。

有句话怎么说的来着……普通人的数十年积累，也不如天才的灵光一闪！

而在这套heuv-300c的基础上，海湾科技那边正在积极推进改进型号，也就是heuv-300d型光刻机……这将会是这一系列光刻机的终极改进型号，其最大的性能特征就是把套刻精度提升到一纳米，用以满足euv光刻机双重曝光，也就是等效三纳米以下工艺的大规模生产要求。

简单来说，其效果就是能够大幅度提升euv双重曝光的良率，降低等效三纳米乃至未来等效二纳米等先进芯片的成本。,¨54a看°2书/° {?首|(发x?

现在的heuv-300c光刻机，虽然在技术指标上能够生产等效三纳米工艺的芯片，但是良率不高，成本昂贵。

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只不过目前的heuv-300d光刻机，还处于原型机制造阶段，要生产并供货，最早也要到明年去了，而要等到heuv-300d光刻机安装调试完成，并进行大规模量产，那最早也得后年去了。

时间太久了，智云集团等不了那么长的时间。

因此智云微电子前期的等效三纳米工艺的生产，只能依靠heuv-300c光刻机了。

而压榨现有光刻机的物理极限，制造更先进的芯片，这也是智云微电子非常擅长的领域。

在duv浸润式光刻机时代里，智云微电子就曾经使用hduv-600系列光刻机，通过四重曝光技术生产等效七纳米工艺……甚至当时一度还尝试过用这个光刻机玩八重曝光，搞等效五纳米工艺呢，这是个无比疯狂的技术。

不过没多久euv光刻机就已经量产并投入使用，因此这个疯狂计划被放弃了。

但是这也导致了，智云微电子在多重曝光领域里的技术积累非常深厚。

现在，智云微电子也在euv光刻机上继续玩多重曝光技术，并且准备用性能稍微不足的heuv-300c光刻机来强行达到大规模量产等效三纳米工艺。

在第三十二厂里，徐申学也在实验室里看到heuv-300c光刻机通过双重曝光，生产等效三纳米工艺芯片的过程，并且最终还看

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