光刻机四重曝光的精度……这意味着什么？

省钱啊！

哪怕euv光刻机更贵，生产效率更低，但是因为不需要四重曝光就能生产等效七纳米乃至五纳米工艺的芯片，因此生产出来的等效七纳米，五纳米工艺的芯片，其成本依旧低于duv浸润式光刻机。

当然，euv光刻机的潜力更大，后续还能够生产性能更好的芯片，这也是现在的duv浸润式光刻机所无法做到的。

比如等到未来，芯片工艺技术进一步发展，芯片的半金属间距进一步提升到四十多纳米、三十多纳米，甚至二十多纳米、十多纳米的时候……duv浸润式光刻机是无论如何都做不到的，这都和工艺没啥关系，而是物理极限就摆在这里，不能忽视基本的物理规律啊！

七纳米和五纳米阶段省钱，性价比高。

等效三纳米，二纳米，一点五纳米，一纳米阶段则是硬需求……没它就造不了。

上述这两点，就是徐申学不管如何都要搞euv光刻机的缘故！

顺带一提，哪怕是现在智云集团正在秘密研发，即将明年发布商用型号的超导量子计算机，它内部的核心零部件‘超导量子芯片’也是用光刻机生产的，而且对工艺要求很高，这需要高端光刻机。

倒是国内另外一些机构正在研发的光子量子计算机，虽然也需要光刻机来生产芯片，但是对光刻机的性能要求不算高。

而现在，随着这台第三代试验机的诞生，困扰智云集团，乃至困扰华夏电子工业的最后一道枷锁，就被彻底打破了。

所以现在徐申学最关心的问题就是：“这台原型机看起来已经相当成熟了，什么时候可以量产商用？”

海湾科技的ceo王道林道：“我们设计这台原型机的时候，就是奔着量产型号去的，从技术角度来说，我们已经打通了所有的技术环节，随时可以生产更多的heuv-300a型的光刻机，但是它毕竟只是一台原型机，纵然理论可行，但是实际长时间使用会暴露什么问题，这依旧不明确，我们依旧需要对它进行一定时间的各种测试，找出来潜在的诸多问题。”

”但是下个月开始，我们可以为智云微电子开始提供少量的实验机型，用来进行前期的测试工作！”

“正式量产型号的话，还需要看后续的测试工作是否顺利，需要多长时间，而这方面还需要智云微电子这边进行配合！”

这个时候，徐申学看向了一旁跟着来视察的智云微电子的ceo丁成军：“你们这边还需要多久才能搞定这些测试工作？”

丁成军斟酌着了会后道：“我们订购euv光刻机的话，必然是用在等效七纳米工艺以及未来的等效五纳米工艺之上的，目前我们的七纳米工艺的技术是建立在duv浸润式光刻机之上的，而这一套工艺和euv光刻机的工艺技术差别会很大！”

“之前我们虽然也获得了一些国外euv光刻机的秘密资料，也尝试进行了理论上的工艺开发准备工作，但是依旧很不完善！”

“当然，单纯光刻机测试工作我们有信心在一年内完成，euv光刻机的七纳米工艺有望在两年左右搞定！”

徐申学心中盘算了一番，这意味着明年冬天左右euv光刻机的量产

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