长。

从七机部退下来以后又被返聘过来的赵老，他已经八十二岁了，头发全白，但眼里依然有光。

还有几位名声不显，但履历随便拎一份出来都能让国内半导体圈地震的人

一共十九个人。

全部站在那台浸没式光刻机的主控台前。

没有人说话。

整个验证舱里，只能听见主控台上那几十台显示器的风扇声，和十九个人呼吸声。

所有人的目光，都盯著前方那块最大的主显示屏上。

显示屏里是浸没腔内部的实时流场可视化渲染。

以前这里是一片的混沌，里面充满了旋涡、湍流、温度梯度的复杂图案。

但现在。

在李东那套21版本降维算法的驱动下，那片混沌被解构成了一组一组的彩色条纹。

每一条条纹，都是算法在谱空间里识别出来的一个低维不变子空间基底。

所有原本应该狂野乱窜的高频振荡项，在这些基底的正交性下被悄无声息地消去。

就像有一只手，从最底层的数学结构里，把湍流这只野兽按进了一个笼子。

主显示屏下方：

【曝光焦面偏差：-007n】

【迭层对准误差：011n】

【算法前馈响应时间：18μs】

011纳米的对准误差。

这个数字的意义，林伟看得懂，张默看得懂，舱里那十九个人都看得懂。

这已经是asl最新一代nxe系列euv光刻机的工程化水平。

而这，是一台浸没式duv。

是他们用一台物理原理上低一个代的机器，靠著一套算法，硬生生把光刻精度拉到了高一个代际的水平线上。

“第七次了。”

有人在林伟身后低声说了一句。

“前六次都成功了。”

“这是第七次验证。”

“贺老说，要连续成功十次以上，才能算是……稳定落地。”