“等到今年秋天，第二产线也会量产，到时候将会再增加两万片的产能！”

“等到明年二月份左右，我们的第三产线也会建成投产，预计再增加一万片的产能！”

“三大产线一起，整个工厂的综合月产能能够达到六万片！”

“同时我们还在规划第四产线，准备把整个工厂的产能提升到每月八万片！”

“这样，再加上正规规划，建设当中的通城基地第三十厂的预期每月七万片产能，我们就能够达到每月十五万片的七纳米/五纳米产能！”

“而这还不包括第二十五厂里采用第一代七纳米工艺的产能，第二十五厂因为采用duv浸润式光刻机生产等效七纳米工艺，其制造成本太高，良率也低，后续等euv光刻机的七纳米产能，同时外部代工市场如果订单需求不足的话，我们可能会将会逐步把第二十五厂的产能转移为十二纳米工艺！”

第二十五厂的七纳米工艺产能，是属于特殊时代下的特殊产物……是智云集团和水果/高通/台积电联盟之间争夺全球首发七纳米工艺的特殊产物。!6}1?μ看]书?网ˉ( ￡3~最e?新μ3?章÷÷?节\?更!(新x快~/?

双方都不惜代价，耗费大量资金，也不惜昂贵的制造成本，强行使用nxt1980光刻机或hduv-600b光刻机，采用四重曝光工艺制造等效七纳米工艺的芯片！

但是这种工艺可以想象的，同样的芯片，其最核心层晶体管的制造，人家heuv-300b这种euv光刻机曝光一次就完事了，但是用hduv-600b浸润式光刻机的话，得曝光四次……足足四次啊！

用脚指头想都知道，这良率肯定好不到哪里去，生产效率也会非常低！

如今heuv-300b光刻机已经出现了，智云集团都开始大规模采用euv光刻机生产第二代七纳米工艺芯片了，那么使用duv浸润式光刻机生产七纳米工艺芯片的技术，自然也就可以抛弃了。

但是……前期是euv光刻机的第二代七纳米工艺有了剩余……如果euv七纳米工艺供不应求的情况下，那么duv浸润式光刻机生产的第一代七纳米工艺依旧会保留并继续生产。

而这个时间段，估计还得好几年，至少要等到通城第三十厂那边完工可以批量生产之后。

未来的几年里，通城基地的第二十五厂，依旧会源源不断的生产第一代七纳米工艺的芯片，为智云集团带来庞大的营收和利润。

上述大小一共六家分厂，这是智云微电子在深城基地里的布局。

第三厂以及第四厂是28-45纳米工艺，两者产能之和是八万片。（duv浸润式光刻机单次曝光）

第六厂是是65纳米以上成熟工艺，产能是十万片。（duv干是光刻机单次曝光）

第九厂是12-18纳米工艺，产能是两万片。（duv浸润式光刻机双重曝光）

第十七厂是12-18纳米工艺，产能是五万片。（duv浸润式光刻机双重曝光）

第二十厂是10-18纳米工艺，产能是四万片。（duv浸润式光刻机双重曝光）

第二十八厂是7纳米以及未来的5纳米工艺，目前三万片，预

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